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发布时间:2025-10-11
关键词:TEM透射电镜测试案例,TEM透射电镜测试标准,TEM透射电镜测试机构
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来源:北京中科光析科学技术研究所
因业务调整,部分个人测试暂不接受委托,望见谅。
高分辨率成像分析:通过调节电子光学系统获得样品的原子级分辨率图像,用于观察材料的晶格排列、界面结构和缺陷分布,提供直接的形貌信息以支持后续定量分析。
选区电子衍射分析:利用电子束在特定区域产生衍射花样,确定材料的晶体结构、相组成和取向关系,有助于识别未知物相和评估晶体完整性。
能谱成分分析:结合X射线能谱仪检测样品发射的特征X射线,实现元素定性和定量分析,用于确定材料的化学成分分布及杂质含量。
电子能量损失谱分析:测量透射电子能量损失谱,获取元素的化学态、价态信息和近边结构,适用于轻元素分析和化学环境表征。
暗场成像分析:通过选择特定衍射束成像突出显示样品中的缺陷、析出相或应变区域,增强对比度以识别微观结构不均匀性。
明场成像分析:使用直透电子束形成图像,提供整体形貌和厚度对比,常用于快速筛查样品质量和选择感兴趣区域。
晶体结构解析:基于衍射数据重构晶体的原子排列模型,确定空间群、晶格参数和对称性,支持材料相变和结构演变研究。
缺陷表征分析:观察位错、层错和空位等晶体缺陷的形态和密度,评估材料力学性能和失效机制,为工艺优化提供依据。
成分分布映射:通过面扫描技术生成元素二维分布图,可视化化学成分不均匀性,用于分析界面扩散和相分离现象。
样品厚度测量:利用电子能量损失谱或会聚束电子衍射方法计算局部厚度,确保分析区域符合薄片要求,减少多重散射影响。
金属及合金材料:包括钢、铝、钛等结构金属,用于分析相组成、晶界特性和强化机制,支撑航空航天和汽车工业材料开发。
半导体器件材料:如硅、锗等单晶及薄膜,评估缺陷密度、界面质量和掺杂分布,保障微电子器件性能和可靠性。
纳米材料与结构:涵盖量子点、纳米线和二维材料,研究尺寸效应、表面态和组装行为,推动纳米技术应用创新。
生物细胞与组织:包括蛋白质复合物和细胞超微结构,揭示生物大分子排列和病理变化,支持生命科学和医学研究。
陶瓷与玻璃材料:如氧化锆、碳化硅等,分析晶相转变、气孔分布和烧结质量,优化高温结构材料设计。
高分子聚合物材料:例如聚乙烯、环氧树脂,观察链段排列、结晶度和相分离,指导功能高分子材料合成。
催化剂材料:包括负载型金属催化剂,表征活性位点分布、载体相互作用,提升催化效率和稳定性。
地质矿物样品:如岩石、矿石薄片,鉴定矿物组成、变质历史和成因信息,辅助地质勘探和资源评估。
环境颗粒物样品:大气粉尘或水处理残留物,分析形貌、元素来源和迁移规律,支持环境污染监测。
医药制剂材料:药物晶体和载体系统,观察晶型、包覆结构和释放行为,确保药品质量和疗效。
ISO 25498:2010《微束分析 分析电子显微镜 选区电子衍射分析方法》:规定选区电子衍射的实验步骤和数据分析要求,确保晶体结构鉴定的准确性和可比性。
ASTM E1504-11《透射电子显微镜性能验证标准指南》:提供仪器分辨率、放大倍数和校准的验证方法,维护检测系统的可靠性和一致性。
GB/T 21636-2008《微束分析 透射电子显微镜分析方法通则》:明确样品制备、成像条件和结果报告规范,适用于国内材料检测的质量控制。
ISO 16700:2016《微束分析 扫描电镜 图像放大校准》:虽针对扫描电镜,但部分原则可用于透射电镜放大校准参考,确保尺寸测量精度。
GB/T 18873-2008《微束分析 透射电子显微镜电子衍射分析方法》:详细规定衍射花样标定和结构解析流程,支持材料相分析标准化。
透射电子显微镜:核心成像设备,采用高压电子束穿透样品形成放大图像,具备高分辨率和高放大倍数功能,用于形貌观察和结构分析。
能谱仪:X射线能谱检测附件,连接电镜进行元素定性和定量分析,实现快速成分 mapping 和点分析功能。
电子能量损失谱仪:高能量分辨率光谱仪,测量电子能量损失以分析化学态和轻元素,支持精细结构表征。
超薄切片机:样品制备设备,通过金刚石刀切割获得纳米级薄片,确保样品电子透明性以满足透射要求。
冷冻传输系统:低温样品处理装置,维持生物或敏感样品原始状态,减少电子束损伤和假象产生。
1、咨询:提品资料(说明书、规格书等)
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7、确认完毕后出具报告正式件
8、寄送报告原件