光刻胶成分精细检测

因业务调整，部分个人测试暂不接受委托，望见谅。

检测项目

树脂成分分析

测定酚醛树脂、丙烯酸酯类或化学放大树脂的分子量分布及官能团含量。重点监控树脂聚合度（PDI≤1.2）、羟基值（150-250 mgKOH/g）及热分解温度（≥300℃）等关键参数。

光引发剂定量

精确测定二苯甲酮类、硫鎓盐类等光敏物质含量（ppm级），验证其吸收波长（365-193nm）与量子效率（≥0.8）。同步监测分解产物浓度以控制副反应。

添加剂体系验证

分析表面活性剂（氟系/硅系）、流平剂及稳定剂的配比精度（±0.5%）。特别关注含硫/金属添加剂残留量（≤10ppb）。

溶剂残留检测

测定丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）、环己酮等溶剂的残留量（≤50ppm），建立沸程分布（120-180℃）与蒸发速率（0.8-1.2g/m²·s）的对应关系。

金属杂质控制

采用ICP-MS检测钠、钾、铁等23种金属元素（≤1ppb），重点监控过渡金属对曝光区蚀刻速率的影响系数（K值≤0.05）。

检测范围

紫外光刻胶系列

覆盖g线（436nm）至i线（365nm）全系产品：包括正性/负性光刻胶的膜厚均匀性（±5nm）、折射率（1.6-1.7）及驻波比（≤1.05）等光学特性。

深紫外光刻胶

适用于KrF（248nm）与ArF（193nm）曝光系统：重点评价抗干法蚀刻能力（选择比≥3:1）、线宽粗糙度（LWR≤4nm）及曝光宽容度（≥15%）。

极紫外光刻胶

匹配EUV（13.5nm）光源特性：监测灵敏度（10-30mJ/cm²）、分辨率（≤16nm HP）及出气率（≤5×10¹⁵ molecules/cm²）。

特殊功能型光刻胶

包含双层结构用牺牲层材料、电子束直写胶及纳米压印胶：验证阶梯覆盖率（≥95%）、显影速率比（1:1.2-1.5）及热流变特性（Tg≥150℃）。

检测方法

色谱-质谱联用技术

HPLC-MS/MS测定树脂分子量分布（MWD），GC-MS分析挥发性有机物（VOCs），LC-QTOF实现未知物结构解析（质量精度＜2ppm）。

光谱分析法

FTIR鉴定官能团特征峰（4000-400cm⁻¹），UV-Vis测定吸光度曲线（200-500nm），椭偏仪计算复折射率（n&k值精度±0.001）。

热分析技术

TGA测定热失重曲线（升温速率10℃/min），DSC分析玻璃化转变温度（±0.5℃），TMA监控热膨胀系数（CTE≤50ppm/℃）。

表面表征技术

AFM测量表面粗糙度（Ra≤0.5nm），SEM-EDX进行元素面分布分析，XPS测定表面化学态（结合能精度±0.1eV）。

检测仪器

高效液相色谱仪

配备示差折光检测器与蒸发光散射检测器：色谱柱温控精度±0.1℃，流动相梯度误差＜1%，保留时间重复性RSD≤0.5%。

飞行时间质谱仪

质量范围m/z 50-20000，分辨率≥40000（FWHM），质量精度＜2ppm。配备MALDI源实现高分子量物质电离。

电感耦合等离子体质谱仪

检出限达ppt级，动态线性范围＞10⁹。四极杆碰撞池技术消除多原子干扰，同位素比测定精度±0.05%。

纳米压痕测试仪

最大载荷500mN，位移分辨率0.01nm。通过Oliver-Pharr法计算弹性模量（E=5-10GPa）与硬度值（H=0.2-0.8GPa）。

激光散射粒度仪

测量范围1nm-10μm，采用Mie散射理论计算粒径分布。配备动态光散射模块测定Zeta电位（±30mV）。

检测流程

1、咨询：提品资料(说明书、规格书等)

2、确认检测用途及项目要求

3、填写检测申请表(含公司信息及产品必要信息)

4、按要求寄送样品(部分可上门取样/检测)

5、收到样品，安排费用后进行样品检测

6、检测出相关数据，编写报告草件，确认信息是否无误

7、确认完毕后出具报告正式件

8、寄送报告原件