化学纯度痕量分析

检测项目

金属杂质含量：测定高纯化学品中钠、钾、铁、铜、铅等金属离子的含量，通常要求达到ppb（十亿分之一）甚至ppt（万亿分之一）级别。

阴离子杂质含量：分析样品中氯离子、硫酸根、硝酸根、氟离子等非金属阴离子的痕量存在。

有机杂质残留：检测合成过程中残留的有机溶剂、原料、中间体或降解产物。

水分含量：精确测定高纯物质中微量水分的含量，对于许多对水敏感的化学品至关重要。

颗粒物与不溶物：评估样品中悬浮或沉淀的微小颗粒数量与尺寸分布。

同位素丰度比：分析特定元素（如碳、氢、氧）的同位素组成比例。

晶型与晶格缺陷：对于固体高纯材料，分析其晶体形态和微观缺陷。

总有机碳：衡量水或溶剂中所有有机污染物含碳量的总和指标。

灼烧残渣：通过高温灼烧，测定样品中不可挥发的无机杂质总量。

特定官能团含量：定量分析高分子或精细化学品中特定反应性基团的含量。

检测范围

电子级化学品：如高纯硫酸、氢氟酸、异丙醇等，用于半导体芯片制造，对金属杂质要求极严。

高纯医药原料与制剂：包括原料药、辅料及成品药中遗传毒性杂质、催化剂残留的分析。

超高纯金属与合金：如高纯硅、锗、砷化镓等半导体材料，以及高纯贵金属。

纳米材料：分析纳米颗粒的纯度、表面化学状态及杂质包覆情况。

标准物质与基准试剂：用于量值传递的基准物质的定值与杂质谱分析。

环境标准样品：如土壤、水体标准物质中痕量污染物的认证分析。

核工业材料：核燃料、慢化剂、冷却剂中特定杂质的严格控制。

光学与激光材料：如光纤预制棒、激光晶体中过渡金属离子和羟基杂质的分析。

食品与饲料添加剂：对维生素、氨基酸等高纯添加剂中有害杂质进行监控。

实验室用高纯溶剂与水：确保HPLC级、质谱级等高端试剂满足分析背景要求。

检测方法

电感耦合等离子体质谱法：具有极低的检出限和宽线性范围，是多元素痕量分析的核心技术。

石墨炉原子吸收光谱法：灵敏度高，样品用量少，适用于单个元素超痕量分析。

离子色谱法：分离和测定阴离子、阳离子及有机酸/碱的高效方法。

气相色谱-质谱联用法：用于复杂基质中挥发性、半挥发性有机杂质的分离、定性与定量。

液相色谱-质谱联用法：特别适用于难挥发、热不稳定的大分子及极性有机杂质的分析。

卡尔·费休库仑法：测定微量至痕量水分的经典且精确的方法。

总有机碳分析仪法：通过氧化-检测原理，快速测定液体样品中的总有机碳含量。

激光剥蚀-ICP-MS：实现固体样品的微区、原位元素分析，无需复杂消解。

X射线光电子能谱：用于材料表面（几个纳米深度）的元素组成和化学态分析。

中子活化分析：一种非破坏性的核分析方法，具有超高灵敏度，用于标准物质定值。

检测仪器设备

高分辨电感耦合等离子体质谱仪：具备高分辨率和高灵敏度，可有效克服质谱干扰，用于超痕量多元素分析。

三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪：利用串联质谱技术，进一步消除干扰，在复杂基质中实现超低检出限。

气相色谱-三重四极杆质谱联用仪：通过多反应监测模式，极大提高有机痕量杂质分析的灵敏度和选择性。

超高效液相色谱-高分辨质谱联用仪：提供精确分子量信息，用于未知有机杂质的结构推测与鉴定。

离子色谱仪：配备电导检测器、安培检测器或质谱检测器，用于离子型杂质的分离分析。

石墨炉原子吸收光谱仪：配备自动进样器和塞曼背景校正系统，实现自动化超痕量金属分析。

卡尔·费休水分滴定仪：包括容量法和库仑法两种类型，是测定痕量水分的标准设备。

总有机碳分析仪：采用高温催化氧化或紫外-过硫酸盐氧化原理，配合NDIR或电导检测器。

激光剥蚀系统：作为ICP-MS的进样附件，实现固体样品的直接微区分析。

超净实验室配套设备：包括百级/千级超净工作台、超纯水系统、特氟龙消解罐等，确保样品前处理过程不受污染。

检测流程

1、咨询：提品资料(说明书、规格书等)

2、确认检测用途及项目要求

3、填写检测申请表(含公司信息及产品必要信息)

4、按要求寄送样品(部分可上门取样/检测)

5、收到样品，安排费用后进行样品检测

6、检测出相关数据，编写报告草件，确认信息是否无误

7、确认完毕后出具报告正式件

8、寄送报告原件