非线性折射率系数 (n₂):衡量介质折射率随光强变化的关键参数,是自聚焦效应的直接物理根源。
光束空间自相位调制:检测光束横截面上因光强分布不均导致的非线性相位延迟分布。
光束近场光斑演变:观察光束在介质中传播时,光斑尺寸随传播距离或入射功率的收缩行为。
光束远场发散角变化:测量经过非线性介质后,光束远场发散角的减小,这是自聚焦导致光束准直性增强的表现。
临界自聚焦功率 (P_cr):确定引发光束完全塌缩(即形成焦点)所需的最小入射激光功率。
光束剖面畸变:分析高斯光束在自聚焦过程中可能出现的剖面形状变化,如变平或出现环状结构。
非线性吸收系数:评估伴随自聚焦可能发生的多光子吸收或饱和吸收等非线性损耗效应。
自聚焦焦距:测量在给定功率下,光束在介质内部形成第一个自聚焦焦点的位置。
光束质量因子 (M²) 演变:量化自聚焦过程中光束空间模式的变化,评估其偏离理想高斯光束的程度。
时间特性耦合:研究脉冲激光下,自聚焦效应与时间效应(如自相位调制)的相互影响。
激光波长范围:通常涵盖可见光至近红外波段(如532nm, 800nm, 1064nm),覆盖常用飞秒及纳秒激光器。
脉冲宽度范围:从飞秒脉冲到连续光,重点关注超短脉冲下的瞬时自聚焦效应。
入射功率/能量范围:从远低于临界功率到数倍于临界功率,以观察从弱非线性到强非线性的完整过程。
介质厚度范围:从薄样品到长介质,用于研究自聚焦的累积效应和动态演化。
光束直径范围:从几十微米到几毫米的初始光束尺寸,研究其对自聚焦阈值和过程的影响。
非线性折射率范围:针对不同介质,测量从10^-16 到 10^-13 cm²/W量级的n₂值。
空间尺度范围:观测从微米量级的焦点尺寸到厘米量级的介质内演化长度。
时间尺度范围:对于脉冲激光,关注与脉冲持续时间相当的非线性响应时间。
功率密度范围:覆盖从GW/cm²到TW/cm²的高光强区间,这是自聚焦效应显著发生的区间。
介质类型范围:包括常见光学晶体、玻璃、液体、半导体及有机非线性材料等。
Z-扫描法:通过测量样品沿光轴移动时透过小孔的光强变化,精确提取非线性折射率系数和吸收系数。
光束轮廓分析法:使用CCD相机或刀口扫描仪,直接记录光束在介质中传播时的近场和远场空间分布演化。
非线性干涉法:利用马赫-曾德尔等干涉仪,测量由自聚焦引起的非线性相位变化,灵敏度高。
临界功率测量法:逐步增加入射功率,观察光束传输特性的突变点,从而确定介质的自聚焦临界功率。
时间分辨阴影成像法:用于超快过程,通过泵浦-探测技术拍摄光束在介质中传播的瞬时“阴影”图。
四波混频法:利用自聚焦对相位匹配条件的影响,通过四波混频信号的改变来反推非线性参数。
数字全息法:记录并重建通过非线性介质前后的光束波前,直接获得由自聚焦引起的波前畸变。
光谱分析法:观测自聚焦与自相位调制耦合导致的光谱展宽或调制,间接分析非线性效应强度。
数值模拟拟合
多脉冲序列法:使用脉冲序列入射,研究累积自聚焦效应以及热效应与非瞬时电子效应的区分。
高功率脉冲激光器:提供高峰值功率光源,如钛宝石飞秒激光器、Nd:YAG纳秒激光器,是激发自聚焦的核心设备。
光束质量分析仪:集成CCD和分析软件,用于精确测量光束剖面、尺寸、发散角及M²因子。
精密光学导轨与位移台:用于构建Z-扫描光路或精确控制样品、探测器的位置。
高灵敏度光电探测器:包括光电二极管、光电倍增管,用于测量光强的精确变化。
科学级CCD相机:用于高分辨率记录光束的空间强度分布,要求具有高动态范围和线性响应。
可变衰减器组:用于连续、精确地调节入射到样品上的激光功率或能量。
光谱仪:用于分析自聚焦过程中伴随的光谱变化,特别是超连续谱的产生。
精密光阑与空间滤波器:用于净化光束模式,确保入射光束为高质量高斯光束。
非线性介质样品池:用于盛放液体或气体样品,或固定固体样品的精密夹具。
数据采集与处理系统:包括示波器、数据采集卡及计算机,用于同步控制实验并处理测量数据。
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