表面粗糙度:定量评估单晶表面在微观尺度上的起伏不平程度,是衡量表面质量的核心参数。
台阶高度与宽度:测量表面原子台阶的垂直高度和横向宽度,用于研究晶体生长模式和表面能。
晶界与畴结构:检测晶体内部不同晶粒或结构畴之间的界面在表面的显露形貌。
表面缺陷密度:统计单位面积内存在的点缺陷、位错露头、空位等缺陷的数量。
划痕与机械损伤:评估在加工或处理过程中产生的线性或区域性的物理损伤形貌。
颗粒污染与吸附物:检测表面附着的异质颗粒、尘埃或化学吸附物的分布与尺寸。
表面波纹度:测量介于宏观形状误差和微观粗糙度之间的中频段周期性起伏。
原子层平整度:在原子尺度上评估表面单层原子面的连续性与完整性。
腐蚀与氧化形貌:观察表面在特定环境(如高温、气氛)下发生的化学腐蚀或氧化产物的形貌特征。
表面重构结构:分析表面原子排列相对于体内晶体结构的周期性变化所形成的超结构。
宏观尺度(毫米至厘米):观测单晶整体的平整度、弯曲度以及肉眼可见的大型缺陷分布。
介观尺度(微米至毫米):分析晶粒、多型体边界、生长条纹以及加工刀痕等特征。
微观尺度(纳米至微米):聚焦于表面台阶、位错坑、纳米颗粒以及微区粗糙度的精细结构。
原子/纳米尺度(亚纳米至数纳米):解析表面原子排列、单原子台阶、点缺陷及表面重构的原子像。
三维形貌重建:获取表面三维空间坐标数据,构建可用于定量分析的三维形貌图。
横向分布统计:研究特定形貌特征(如台阶、缺陷)在样品表面不同区域的分布均匀性。
纵向深度剖面:测量划痕、台阶或孔洞的深度方向轮廓,获取精确的深度信息。
动态过程监测:在变温、气氛暴露或外场作用下,实时或原位观测表面形貌的演变过程。
特定区域对比:对比分析晶体中心与边缘、不同晶面或经过不同处理的区域之间的形貌差异。
全场与选区分析:既可进行大范围的快速扫描以概览全局,也可对感兴趣的小区域进行高分辨详查。
原子力显微镜(AFM):利用探针与表面原子间作用力,在大气或液体环境中实现纳米级三维形貌成像。
扫描隧道显微镜(STM)基于量子隧穿效应,在超高真空下获得具有原子级分辨率的表面电子态密度形貌图。
白光干涉仪(WLI):利用白光干涉原理,快速、非接触地测量从纳米到毫米尺度的表面轮廓和粗糙度。
激光共聚焦显微镜(CLSM):通过共聚焦光路消除离焦光,获得高对比度的光学断层图像,用于三维形貌重建。
扫描电子显微镜(SEM):利用聚焦电子束扫描样品,通过二次电子或背散射电子信号获得高景深的表面微观形貌图像。
透射电子显微镜(TEM):对制备的极薄样品进行透射成像,可观察表面及亚表面的原子结构,但制样复杂。
光学轮廓仪:基于相移干涉或共聚焦原理,实现大范围、高精度的非接触式表面高度测量。
低能电子衍射(LEED):通过分析低能电子束的衍射图案,间接表征表面原子排列的周期性结构信息。
X射线反射率(XRR):通过分析X射线在表面的反射率随入射角的变化,精确测定表面和界面的粗糙度与层状结构。
数字全息显微术(DHM):一种非侵入式的定量相位成像技术,能够快速获取活体或透明样品的三维形貌信息。
多模式原子力显微镜:集成接触、轻敲、相位成像等多种模式的AFM,可同时获取形貌及力学、电学性能信息。
超高真空扫描隧道显微镜:配备分子束外延、离子溅射等预处理系统的STM,用于原子级清洁表面的制备与表征。
三维光学轮廓仪:通常基于白光干涉或共聚焦技术,配备高精度压电位移台和自动化分析软件的正规形貌测量系统。
场发射扫描电子显微镜
场发射扫描电子显微镜:采用场发射电子枪,具有更高亮度和分辨率的SEM,适合观察二硼化物等导电性差异较大的材料。
聚焦离子束-扫描电镜双束系统(FIB-SEM):结合离子束刻蚀/沉积和电子束成像,可用于样品截面制备与三维形貌重构。
激光共聚焦扫描显微镜系统
激光共聚焦扫描显微镜系统:配备多种激光器和高灵敏度探测器,可实现高分辨率光学切片和三维可视化。
X射线衍射仪(附带掠入射模式)
X射线衍射仪(附带掠入射模式):通过掠入射X射线衍射(GIXRD)技术,专门用于分析薄膜或表面的晶体结构和应力。
低能电子衍射/俄歇电子能谱联用系统(LEED/AES)
低能电子衍射/俄歇电子能谱联用系统(LEED/AES):在超高真空腔内集成,可同时分析表面晶体结构和化学成分。
非接触式表面形貌测量仪
非接触式表面形貌测量仪
非接触式表面形貌测量仪
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