元素组成分析:定性及定量测定样品表面(约1-10纳米深度)存在的所有元素(除氢、氦外)。
化学态与价态分析:通过精确测量内层电子结合能位移,确定元素所处的化学环境、氧化态及官能团。
元素相对原子浓度:通过测量光电子峰强度,计算各元素在分析体积内的原子百分比含量。
深度剖析:结合离子溅射刻蚀,获取元素及其化学态随样品深度变化的分布信息。
污染与吸附物鉴定:识别样品表面的有机污染物、吸附气体、氧化物层或加工残留物。
薄膜厚度测量:基于光电子信号衰减模型,非破坏性地估算超薄覆盖层(如氧化物、涂层)的厚度。
化学成像:通过扫描微区X射线束或成像探测器,获取特定元素或化学态在样品表面的二维分布图。
价带谱分析:分析价带区域的电子结构,获取类似于紫外光电子能谱的信息,研究材料的电子性质。
角分辨XPS:通过改变光电子的出射角,非破坏性地获取表层与亚表层化学信息的差异。
线形分析:分析光电子峰的峰形、不对称性和卫星峰,获取关于电子结构、等离子体激元等信息。
半导体材料与器件:分析栅极介质、界面态、掺杂元素分布、钝化层及工艺污染。
催化材料:研究催化剂表面活性组分的化学态、分散度及反应前后的价态变化。
金属与合金腐蚀:表征钝化膜、腐蚀产物的成分、厚度及化学状态,研究腐蚀机理。
高分子与聚合物:分析表面改性、接枝、老化、粘接界面以及添加剂在表面的偏析。
涂层与薄膜材料:评估涂层成分、均匀性、界面扩散、多层结构及结合状态。
纳米材料:表征纳米颗粒、量子点的表面化学、包覆层性质及尺寸效应引起的电子结构变化。
生物材料与植入体:分析蛋白质吸附、表面改性官能团、生物相容性涂层的化学成分。
能源材料:研究电池电极/电解质界面(SEI膜)、燃料电池催化剂、光伏材料表面态。
地质与矿物学:分析矿物表面风化产物、吸附离子种类及浮选药剂的作用机理。
考古与艺术品保护:无损分析文物表面镀层、颜料、腐蚀产物及保护材料的成分与状态。
全谱扫描:在宽结合能范围(如0-1200 eV)进行快速扫描,用于初步鉴定样品表面存在的所有元素。
窄区高分辨谱扫描:对特定元素的特征峰进行慢速、高能量分辨率扫描,用于精确测定结合能和化学态分析。
离子溅射深度剖析:使用惰性气体离子(如Ar+)逐层溅射剥离表面,同时进行XPS分析,获得成分深度分布。
角分辨XPS法:通过改变样品与分析器之间的夹角,利用光电子的非弹性平均自由程效应,获取不同深度的信息。
XPS成像/谱图技术:通过小束斑X射线扫描或平行成像方式,获取特定元素或化学态在微米尺度上的空间分布图像。
峰拟合与去卷积:使用正规软件对重叠的XPS谱峰进行拟合分解,以分离和量化不同化学态的贡献。
背景扣除法:采用Shirley或Tougaard等方法扣除光电子谱中的非弹性散射背景,以准确计算峰面积。
相对灵敏度因子法:利用元素特征峰的相对灵敏度因子将测得的峰强度转换为原子浓度,进行定量分析。
电荷中和法:对于绝缘样品,使用低能电子枪或低能离子束进行电荷中和,以消除荷电效应导致的谱峰位移。
变角XPS法:系统改变探测角度,利用信号衰减差异,非破坏性估算超薄覆盖层的厚度和界面信息。
X射线激发源:通常采用单色化Al Kα (1486.6 eV) 或非单色化Mg Kα (1253.6 eV) X射线源,产生初级X射线。
电子能量分析器:核心部件,通常为半球形分析器,用于精确测量发射光电子的动能(或结合能)。
超高真空系统:为减少光电子与气体分子的碰撞,分析室需维持优于10^-8 mbar的超高真空环境。
样品台与进样系统
离子枪
1、咨询:提品资料(说明书、规格书等)
2、确认检测用途及项目要求
3、填写检测申请表(含公司信息及产品必要信息)
4、按要求寄送样品(部分可上门取样/检测)
5、收到样品,安排费用后进行样品检测
6、检测出相关数据,编写报告草件,确认信息是否无误
7、确认完毕后出具报告正式件
8、寄送报告原件
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