电子级溶剂纯度分析

检测项目

金属离子含量：检测钠、钾、钙、铁、铜等数十种金属杂质，其含量通常要求低于ppb级，是影响芯片良率的关键指标。

颗粒物计数与粒径分布：测定溶剂中悬浮的固体颗粒数量及大小，通常对0.1μm以上的颗粒进行严格控制，以防止电路短路或缺陷。

水分含量：精确测定溶剂中的微量水，水分过高会导致光刻胶性能变化、金属腐蚀及氧化等问题。

总有机碳含量：衡量溶剂中可氧化有机杂质的总量，是评估溶剂有机污染程度的综合性指标。

非挥发性残留物：将溶剂蒸发后，测定剩余固体残渣的质量，反映溶剂中溶解性非挥发性杂质的水平。

阴离子含量：检测氯离子、硫酸根、硝酸根等阴离子杂质，这些离子会腐蚀金属线路，影响器件可靠性。

酸度/碱度：测量溶剂的pH值或酸碱当量，确保其化学性质稳定，不会与工艺材料发生不必要的反应。

紫外吸光度：在特定波长下测量溶剂的吸光度，用于评估其中含有的不饱和有机物或芳香族杂质。

比重/密度：测定溶剂在特定温度下的密度，作为其纯度和一致性的快速物理指标。

折射率：测量光线通过溶剂时的偏折程度，是鉴别溶剂种类和纯度的经典物理参数。

检测范围

异丙醇：广泛应用于半导体清洗和光刻工艺中的去胶、干燥步骤，对金属和颗粒物要求极高。

丙酮：用作去脂剂和清洗剂，需严格控制其水分、有机杂质和NVR（非挥发性残留物）。

N-甲基吡咯烷酮：在显示面板制造中用于剥离光刻胶，其纯度和金属离子含量至关重要。

四甲基氢氧化铵溶液：作为重要的显影液，其金属离子、阴离子及颗粒污染控制直接决定图形质量。

氢氟酸：关键的蚀刻剂，需要超高纯度，对多种金属杂质及颗粒有近乎苛刻的要求。

过氧化氢：用于晶圆清洗和氧化，其稳定性和金属杂质含量是关键分析项目。

硫酸：在清洗和蚀刻工艺中大量使用，对其中的砷、铁等特定杂质有严格限制。

盐酸：用于蚀刻和清洗，纯度分析重点在于重金属及阴离子杂质的控制。

乙酸乙酯：用作溶剂和清洗剂，需分析其水分、酸度及有机杂质含量。

环己烷：在半导体工艺中用于特定清洗过程，其纯度和痕量杂质分析至关重要。

检测方法

电感耦合等离子体质谱法：用于超痕量（ppt-ppb级）金属元素分析的权威方法，灵敏度极高。

激光颗粒计数器法：基于光散射原理，对溶剂中亚微米级颗粒进行在线或离线计数和粒径分析。

卡尔·费休库仑法：测定微量水分（ppm级以下）的国际标准方法，准确度高，专属性强。

总有机碳分析仪法：通过高温催化氧化将有机碳转化为二氧化碳并检测，从而测定TOC值。

重量法：用于测定非挥发性残留物的经典方法，通过蒸发、干燥和称重完成。

离子色谱法：分离和检测溶剂中各种阴离子及部分有机酸/碱的标准方法。

电位滴定法：精确测定溶剂酸度或碱度的常用方法，通过测量滴定过程中电位的变化来确定终点。

紫外-可见分光光度法：通过测量溶剂在紫外-可见光区的吸光度来评估特定杂质的含量。

气相色谱法：用于分析溶剂中挥发性有机杂质组分及其含量。

阿贝折光仪法：使用阿贝折光仪在恒定温度下测量溶剂的折射率，操作简便快捷。

检测仪器设备

电感耦合等离子体质谱仪：进行超痕量金属元素分析的核心设备，具备多元素同时检测和极低的检测限。

激光颗粒计数器：配备超洁净流路的在线或瓶取样颗粒检测系统，用于监控0.1μm及以上颗粒。

卡尔·费休水分滴定仪（库仑法）：专门用于测定ppb至ppm级别微量水分的精密仪器。

总有机碳分析仪：用于连续或离散样品中总有机碳含量的高精度测量。

精密电子天平：具有高分辨率和稳定性的天平，用于NVR重量法测定中的精确称量。

离子色谱仪：配备电导检测器及超纯试剂抑制系统，用于阴离子和阳离子的分离与定量。

自动电位滴定仪：可实现酸值、碱值等自动滴定分析，减少人为误差。

紫外-可见分光光度计：配备石英比色皿，用于测量溶剂在特定波长下的吸光度。

气相色谱仪：配备顶空进样器、FID或MS检测器，用于挥发性有机杂质的定性与定量。

阿贝折光仪/数字折光仪：用于快速测量溶剂折射率，是鉴别和快速筛查的常用工具。

检测流程

1、咨询：提品资料(说明书、规格书等)

2、确认检测用途及项目要求

3、填写检测申请表(含公司信息及产品必要信息)

4、按要求寄送样品(部分可上门取样/检测)

5、收到样品，安排费用后进行样品检测

6、检测出相关数据，编写报告草件，确认信息是否无误

7、确认完毕后出具报告正式件

8、寄送报告原件